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目錄:北京格微儀器有限公司>>離子濺射儀>> GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀

磁控膜厚一體濺射儀
  • 磁控膜厚一體濺射儀
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 GVC-2000
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 北京市
屬性

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>

更新時間:2025-01-02 17:33:34瀏覽次數(shù):1593評價

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GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內(nèi)部集成膜厚檢測控制模塊,可精確測量、實時顯示當(dāng)前鍍膜厚度;精準(zhǔn)測量并復(fù)現(xiàn)當(dāng)前試驗結(jié)果。

GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內(nèi)部集成膜厚檢測控制模塊,可精確測量、實時顯示當(dāng)前鍍膜厚度;精準(zhǔn)測量并復(fù)現(xiàn)當(dāng)前試驗結(jié)果。

1、采用平面磁控濺射靶頭進行靶材濺射,以確保工作過程樣品不會發(fā)生熱損傷;

2、采用單片機作為處理器,全自主知識產(chǎn)權(quán),擴展性好,可選配膜厚監(jiān)控組件;

3、5英寸觸摸式液晶顯示屏,分辨率為800×480,全數(shù)字顯示;

3.1可設(shè)定:

(1)濺射電流;

(2)濺射時間;

(3)靶材種類;

(4)工作真空度;

(5)工作氣體;

(6)屏幕亮度等參數(shù)。

3.2可顯示:

(1)濺射電流;

(2)濺射剩余時間;

(3)工作真空度;

(4)靶材累計使用時間;

(5)設(shè)備累計使用時間等參數(shù)。

4、濺射電流:5-45mA連續(xù)可調(diào),最小步長為1mA;

5、濺射時長:1-999s連續(xù)可調(diào),最小步長為1s;

6、濺射真空:4-20Pa連續(xù)可調(diào),最小步長為0.1Pa;

7、濺射靶材:標(biāo)配為高純金靶(純度4N9),規(guī)格為φ57×0.12mm;

8、真空室:采用高透光性的高硅硼玻璃,尺寸約為φ125×125mm;

9、樣品杯:可容納最大樣品杯尺寸為φ90mm;

10、系統(tǒng)提供金、鉑對于空氣和氬氣的工作參數(shù),可直接使用。同時提供3種自定義靶材,用戶可根據(jù)自己需求設(shè)定工作參數(shù);

11、設(shè)定工作真空度后,系統(tǒng)可自動調(diào)整至設(shè)定值,無需調(diào)節(jié)針閥;

12、設(shè)定濺射電流后,系統(tǒng)可自動調(diào)整至設(shè)定值,無需其它操作;

13、具備濺射電流和真空度雙重互鎖,安全可靠,任一條件觸發(fā),系統(tǒng)即可停止工作,防止因為誤操作導(dǎo)致設(shè)備損壞;

14、極限真空優(yōu)于1Pa,真空泵抽速為1L/s;

15、具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能非常方便用戶了解系統(tǒng)工作狀態(tài);

16、采用*的靶材更換結(jié)構(gòu),無需任何工具,即可實現(xiàn)快速更換靶材;

17、操作軟件:內(nèi)置操作向?qū)?,便于操作人員快速熟悉設(shè)備,在人員更替時無需廠家培訓(xùn)即可熟練操作儀器。

GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀技術(shù)參數(shù):

1、濺射靶頭采用平面磁控靶設(shè)計;

2、系統(tǒng)采用單片機等微處理器控制,全數(shù)字顯示;

3、彩色液晶屏顯示,屏幕不小于5英寸;

4、最大濺射電流不小于45mA,最小濺射電流不大于5mA,步進量為1mA;

5、濺射真空度可任意設(shè)定,且最小調(diào)節(jié)量0.1Pa;

6、可存儲不少于5種靶材的工作參數(shù);

7、最長濺射時間不小于600秒;

8、具備電流保護和真空保護功能,在電流過大、真空度較差時保證設(shè)備安全;

9、極限真空優(yōu)于1Pa;

10、可實時顯示靶材使用時間和設(shè)備工作時間;

11、可用實時曲線顯示濺射電流和真空度。


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