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| 供貨周期 | 一周 | 應用領域 | 化工 |
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HBN薄膜，單層氮化硼薄膜，銅基底
中文名稱：單層氮化硼薄膜(銅基)，HBN薄膜
英文名稱：Monolayer boron nitride film（HBN）
CAS號：7440-42-8
覆蓋率：100%
基底：Cu
晶粒尺寸：>4 um
單層率：大約80%
應用：HBN薄膜可被用作金屬絕緣金屬結構的超薄間隔層，以及電子的隧道阻擋層，使其具有廣泛的應用，例如納米電容器、場效應隧道晶體管。作為單分子膜還可被用作介質或基片。
保存條件：常溫干燥避光密封保存，保存期限半年。
HBN薄膜，單層氮化硼薄膜，銅基底
單層氮化硼薄膜（銅基）通常指的是在銅基底上制備的單層氮化硼（h-BN）薄膜。氮化硼是一種由硼和氮原子組成的二維晶格結構材料，類似于石墨烯。它具有一些性質，如良好的熱穩定性、電絕緣性和光學透明性。
在制備單層氮化硼薄膜時，通常會采用化學氣相沉積（CVD）等技術，將氮化硼沉積在銅基底上，形成單層薄膜結構。這種結構可以在電子器件、光電子器件和其他應用中發揮作用。
HBN薄膜的特性使其在一些領域中具有廣泛的應用，例如作為絕緣層、潤滑材料、二維材料堆疊中的組裝層等。
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以上資料來自西安昊然生物小編JMY 2024.1.22.
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