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純度	95%	供貨周期	現貨
規格	mg	應用領域	醫療衛生,化工,生物產業
主要用途	科研用

PVDF電紡纖維膜-孔徑30um
靜電紡絲作為一種簡便高效的生產高分子納米纖維的加工技術，用于制備低模量、高柔順性、高強度的可降解高分子纖維材料是一個重要的科學課題。這類材料研究成功后可用于制作高柔韌性單絲手術縫線，也可用于制備組織工程支架等，這將推動醫學和生物學的發展與進步。

PVDF電紡纖維膜-孔徑30um

以硫化鋅銅熒光粉,聚苯乙烯(ps)和聚偏氟乙烯(PVDF)為原料,通過靜電紡絲法(電紡)制備了熒光超細纖維膜,通過掃描電子顯微鏡(SEM),X射線衍射儀,差示掃描量熱儀(DSC)和熒光分光光度計研究了熒光粉含量對纖維形貌,熒光性能的影響.結果表明,隨熒光粉含量的增加,纖維中的熒光粉顆粒量增加,纖維膜中熒光粉晶體含量增加,纖維膜發光強度增加.在保證電紡過程的可紡性和所得纖維膜的基本力學性能的前提下,在熒光粉含量為50%時,所得纖維膜的熒光性能好.

利多卡因PLGA.png

聚己內酯(PCL)-明膠納米纖維膜

聚己內酯靜電紡絲纖維膜

聚乙烯醇靜電紡絲纖維膜

聚乙烯吡咯烷酮靜電紡絲纖維膜

明膠靜電紡絲纖維膜

聚氧化乙烯靜電紡絲纖維膜

聚偏氟乙烯靜電紡絲纖維膜

聚丙烯腈靜電紡絲纖維膜

聚砜靜電紡絲纖維膜

聚苯乙烯靜電紡絲纖維膜

聚乙烯吡咯烷酮（PVP）/PEO（聚氧化乙烯）纖維膜

聚乳酸-乙醇酸/氧化鋅納米靜電紡絲纖維膜

聚乳酸/納米羥基磷灰石納米纖維支架

開放式孔構薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

溫馨提示：以上產品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）

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