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| 純度 | 95% | 供貨周期 | 現貨 |
|---|---|---|---|
| 規格 | mg | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業 |
| 主要用途 | 科研用 |
PCL納米纖維薄膜網格膜片300nm-昊然
靜電紡絲技術是目前制備納米纖維重要的基本方法。這一技術的核心是使帶電荷的高分子溶液或熔體在靜電場中流動并發生形變,然后經溶劑蒸發或熔體冷卻而固化，于是得到纖維狀物質，這一過程簡稱電紡。
PCL納米纖維薄膜網格膜片300nm-昊然
PCL納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）
通過蒸汽刻蝕法對靜電紡絲制備的納米纖維膜進行刻蝕,使微米相纖維產生納米級的觸角,成功制備疏水性聚己內酯(PCL)納米纖維膜.同時研究了溶劑配比,刻蝕時間等因素對PCL納米纖維膜刻蝕結果的影響規律.通過掃描電子顯微鏡(SEM),接觸角測量儀分析不同條件對纖維膜表面形貌及其疏水性的影響.
PLGA納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：200um）
PLGA納米纖維網格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：400um）
PLGA納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）
PLGA納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）
PLGA納米纖維內嵌網格膜片150nm（厚度：600um）（孔數：6/12/24/48/96）（網格空隙：200um）
PLA納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：200um）
PLA納米纖維網格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：400um）
PLA納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）
PLA納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）
PLA納米纖維內嵌網格膜片150nm（厚度：600um）（孔數：6/12/24/48/96）（網格空隙：200um）
PCL納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：200um）
PCL納米纖維網格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網格空隙：400um）
PCL納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）
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