生產去離子水的設備供應商

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 反滲透生產設備工藝流程：
原水 → 原水箱 → 原水泵 →多介質過濾器 （石英砂過濾器）→活性炭過濾器 →軟水處理器（添加阻垢劑裝置） → 精密過濾器 → 高壓泵 → 一級反滲透（RO）裝置 →紫外線殺菌裝置（臭氧殺菌裝置） → 用水點

設備參數：
　　名稱：超純水設備
　　型號：XS-10T
　　進水口徑：15-100（mm）
　　產水量：0.25-50t/h
　　工作壓力：1.5MPa（psi）
　　概述：

　　選擇去離子水設備的必要性：  
　　去離子水在電子工業主要是線路板、電子元器件生產中的重要作用日益突出，去離子水質已成為影響線路板、電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，去離子水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。
　　在晶體管、集成電路生產中，去離子水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。