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可變角度光譜橢偏儀（HO-SE-01）
閱讀：189 發布時間：2024-11-27光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測量。Holmarc 的光譜橢偏儀采用旋轉分析儀橢偏技術來表征薄膜樣品。它使用高速 CCD 陣列檢測來收集整個光譜。它可以測量從納米厚度到幾十微米
的薄膜，以及從透明材料到吸收材料的光學特性。它能精確測量折射率、薄膜厚度和消光系數等光學常數。
規格
光譜范圍：450 - 800 納米
橢偏儀配置 ： RAE
探測器：3648 像素 CCD 線性傳感器
光譜分辨率：1 納米
入射角：50 - 75 度（分辨率 0.1 度，自動操作）
樣品聚焦：自動
樣品厚度：0.3 毫米 - 8 毫米
厚度測量范圍：20 納米 - 10 微米
薄膜厚度分辨率：0.01 納米
測量 R.I 的分辨率：0.001
樣品校準 ： 手動傾斜
樣品測量 自動
厚度分析：先進的數學擬合算法
軟件功能
自動操作
自動樣品聚焦
用戶可擴展材料庫
數據可保存為 Excel 格式
數學擬合算法
多層厚度測量
推導厚度和光學常數
橢偏原理
橢偏儀是一種高靈敏度的薄膜分析技術。其原理依賴于光從表面反射時偏振態的變化。
為了描述與電磁波電場方向相對應的偏振態，選擇了兩個方向作為參考，即 p 方向（平行）和 s 方向（垂直）。反射光在 p 方向和 s 方向的相位變化不同。橢偏儀可以測量這種偏振狀態；
p = rp / rs = tan Ψe iΔ
其中，Ψ 和 Δ 分別是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于橢偏儀測量的是兩個值的比值，因此非常精確且可重復。
特點
非破壞性和非接觸式技術
分析單層和多層樣品
精確測量超薄薄膜
用于測量、建模和自動操作的軟件
統一的 (Ψ, Δ) 測量靈敏度