日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03
納米壓印法作為一種通過在樹脂或玻璃上按壓經過數十至數百納米的超細加工的金屬模具而在短時間內產生大量相同形狀的零件的技術而引起人們的注意。該方法也大致分為通過加熱軟化并進一步冷卻和固化的熱固化方法，以及使用UV固化樹脂并通過UV光固化的光固化方法。

日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03

納米壓印法作為一種通過在樹脂或玻璃上按壓經過數十至數百納米的超細加工的金屬模具而在短時間內產生大量相同形狀的零件的技術而引起人們的注意。該方法也大致分為通過加熱軟化并進一步冷卻和固化的熱固化方法，以及使用UV固化樹脂并通過UV光固化的光固化方法。

型號TM-03

該設備是一種小型的研究設備，可以打印20 mm×20 mm的樣品。迄今為止，我們已經制造出許多壓印裝置，它們相對較大，并且我們還不能改善世界上與壓印裝置有關的問題，例如研究成本負擔和確保安裝位置。做到了。

因此，我們創建了一種小型且不會占用實驗室空間的設備，并且可以在各種條件下進行研究。該納米壓印裝置主要是從大學研究和實驗的角度來制造的，由于消除了納米壓印裝置的昂貴引入的圖像，因此我們在考慮了裝置的尺寸和可用性之后也生產了這種尺寸的納米壓印裝置。壓印方法使用光固化方法，并且可以記錄圖形和表格數據。您為什么不比以往更輕松地嘗試使用新技術進行現場實驗？

[此設備的規格]

壓印方法	光固化方法
紫外線裝置性能	光強度400 mW / cm2 波長大365 mm
壓剝負荷	0.1?100N
樣本量	20毫米x 20毫米
壓機剝離速度	1?1000微米/秒
電源供應	100伏交流電
樣品板	硅晶片/玻璃基板
設備重量	約25kg

型號TM-04

到目前為止，納米壓印設備已經在各個地方進行了實驗，并且每天都在進行實際研究。到目前為止，我們已經制造了各種壓印設備，但是還沒有制造簡單的壓印設備。

因此，我們創建了前suo未有的納米壓印設備，其概念是“無論光固化電源的位置如何，都可以攜帶一個簡單的便攜式壓印設備”。設備上裝有LED型紫外線燈，并使用電機驅動器進行升降，調節升降速度的操作很簡單。

多可施加200N的壓力傳遞壓力，而Φ20則可用于基材。首先，對于那些希望通過簡單的測試機廉價地打標的人來說，這是一臺推薦的機器。

[此設備的規格]

壓印方法	光固化方法
紫外線裝置性能	光強度6.0 mW / cm2 波長大370 mm
壓載	1?20牛
樣本量	10毫米x 10毫米
壓機剝離速度	20毫米/秒
電源供應	AC100V或 DC12V 2.3A小電池
樣品板	硅晶片/玻璃基板
設備尺寸	高469 x寬300 x深200（毫米）

日本三井電氣mitsuiec實驗性納米烙印機TM-03

型號TMR-02

本設備使用EB曝光系統通過熱固化或UV固化在大直徑輥（Φ150）上雕刻刻有輥壓印模具小直徑輥（Φ30）的納米圖案，以形成小直徑輥圖案。這是一種測試輥壓印設備，可將這種大直徑輥式模具的納米圖案轉印到薄膜上，然后將薄膜轉印到大直徑輥上。

[此設備的規格]

壓印方法	熱固化法/ UV固化法
滾滾	Φ300x 150
按對象	0.08?0.2噸
大輥壓負荷	500N
單位面積負荷	3.92牛頓/毫米²
涂布方式	尺寸壓制法/逗號滾模法

 

型號TM-02

該裝置的納米壓印裝置可以通過該單元實現同時具有熱固化和光固化的兩種方法，并且壓印是通過從頂部進行印刷壓力來進行的。

除了設置所需的壓力負荷/速度和剝離負荷/剝離速度以外，還可以在PC上記錄研究/開發試生產所需的各種條件和測量結果，以便將來進行生產。它是在設置條件中起作用的設備。

[此設備的規格]

壓印方法	熱固化法/光固化法
壓力/加載速度（總壓力）	1?1000微米/秒
大負荷	從室溫到250°C
工作尺寸	50 x 50毫米

【測試條件】

 

• 負載檢測
• 壓機速度
• 剝離速度
• 真空度/每個溫度
• 每一次