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技術文章

F20膜厚測量系統的特點

閱讀:1197          發布時間:2023-10-30

F20膜厚測量系統的特點

這是一種行業標準、低成本、多功能桌面薄膜厚度測量系統,在全球安裝了 5,000 多個裝置。它可用于廣泛的應用,從研究和開發到制造現場的在線測量。
F20基于光學干涉法,可以在約1秒內輕松測量透明或半透明薄膜的厚度、折射率和消光系數。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信,因此也可以從PLC或主機進行控制。

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主要特點

  • 兼容多種薄膜厚度(1nm 至 250μm)

  • 兼容寬波長范圍(190nm至1700nm)

  • 強大的膜厚分析

  • 光學常數分析(折射率/消光系數)

  • 緊湊型外殼

  • 支持在線測量

主要用途

平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學膜等
半導體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光學鍍膜防反射膜、硬涂層等
薄膜太陽能電池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等
醫療保健鈍化、藥物涂層等

產品陣容

模型F20-UVF20F20-HRF20-近紅外F20-EXRF20-UVX
測量波長范圍190 – 1100nm380 – 1050納米440 – 1000nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
膜厚測量范圍1nm – 40μm15納米 – 70微米50納米 – 180微米100nm – 250μm15納米 – 250微米1nm – 250μm
準確性*膜厚的±0.2%膜厚的±0.4%膜厚的±0.2%
±1nm±2nm±3nm±2nm±1nm
測量光斑直徑1.5mm 或 0.5mm(
最小 0.1mm)可供選擇(可選)
光源

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素

*測量 Filmetrics 提供的 Si 基板上的 SiO2 薄膜時設備本身的精度。

測量示例

可以測量從半導體等精密加工品到玻璃、汽車零部件等各種樣品的膜厚。

 

多晶硅薄膜的膜厚和折射率分析

玻璃硬質鍍膜膜厚分析



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