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半導體制造行業工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹
閱讀：1280 發布時間：2023-7-21半導體制造行業工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹
特點
光刻是半導體制造過程中不可少的工藝之一。
晶圓被光刻膠，然后進行蝕刻和摻雜過程。
NLT3-591nm系列以光刻膠不反應的波長發光，使其適用于光刻前后工藝中的設備照明，這是一種半導體制造工藝。
應用示例
半導體設備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等
規范
| 發光二極管波長 | 591納米 |
|---|---|
| 預期壽命 | 工作溫度 40°C 40，000 小時 * 壽命是照度為初始照度的 70% 時 |
| 工作溫度 | -10°C~40°C（但不凍結） |
| 防護等級 | IP65 防護等級 |
| 電源線 | 3 米 （AWG26x2C） |
| 選擇 | 安裝磁鐵 （ND-P03） |
|---|---|
標準型號列表
| 型 | 繪圖 | 總光通量 | 照度（1米） | 權力 | 功耗 |
|---|---|---|---|---|---|
| NLT3-10-直流-S（591納米） | 300 流明 | 80 lx | 直流24V | 3.8瓦 | |
| NLT3-20-直流-S（591納米） | 610 流明 | 160 lx | 8W | ||
| NLT3-30-直流-S（591納米） | 930 流明 | 230 lx | 12W | ||
| NLT3-40-直流-S（591納米） | 1，240 流明 | 310 lx | 16W |
