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光學膜厚儀OMD-1000的運用范圍
閱讀：1443 發布時間：2021-5-25光學膜厚儀OMD-1000的運用范圍
典型應用領域
半導體制造業，光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量。
生物醫學原件：聚合物/聚對二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層。
微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡
液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導電透明膜
由于是光學測量，在測量時候無須擔心破壞樣品，讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內就可測量結果。
這是一種光譜膜厚監測儀，可監測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產生的光量變化。它也用在我們自己的薄膜沉積設備中，并作為膜厚監測設備完成，該設備具有氣相沉積零件制造商的專業知識。
全波長范圍
在傳統型號中，波長選擇是濾光片類型，但是新產品采用了我們公司具有良好記錄的分光鏡，現在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個人計算機兼容的數字輸出，控制機構是從手動操作到個人計算機的命令控制。另外，通過將薄膜厚度計主體通過I / F直接連接到個人計算機來控制其厚度成為可能，這是一個非常緊湊的系統，無需像其他制造商那樣的控制器。
特征
- 分光鏡設計緊湊
- 通過提高抗噪聲性（靜電放電測試耐電壓±5 kV）實現高度可靠的膜厚監控
- 可以通過PC上的命令自動控制
- 通過將控制器整合到接收器主體中來實現高性價比
產品規格
| 模型 | OMD-1000 |
| 光譜儀類型 | 切爾尼·特納（Czerny Turner）類型單單色 |
| 波長范圍 | 保證范圍：380至900 nm可操作 范圍：350至1100 nm |
| 波長分辨率 | 狹縫0.5mm：4.2nm [546nm] 狹縫1.0mm：8.3nm [546nm] |
| 波長精度 | ±1.0納米 |
| 最小波長進給 | 0.1納米 |
| 外部控制 | RS232C |
| 外部輸出端子 | DC0-2V（滿量程） |
| 采樣間隔 | 100ms以上 |
| 靜電放電試驗耐電壓 | ±5kV（實際8kV） |
| 光源 | 12V100W鹵素燈 |
| 光強度穩定性 | ±0.1％/ h以下 |
| 輸入電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
| 允許輸入電壓 | AC85-132V |
| 視在功率 | 340VA以下 |
| 使用環境 | 溫度10-35℃ 濕度20-80％ |