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光刻技術
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地: 廣東深圳

更新時間:2025-05-09 21:00:07

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microArch S240 10μm高精度微納3D打印系統基于BMF摩方的技術?面投影微立體光刻技術(Pusl)構建,并融入了摩方自主開發的多項技術。

一、3D光刻技術介紹

摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術,這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用,使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間,并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。

在三維復雜結構微納加工領域,BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗,針對客戶在項目研究中可能出現的工藝和材料難題,我們將持續提供簡易高效的技術支持方案。


二、3D光刻技術功能介紹

*的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度,使打印速度最高提升10倍以上;
能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂,從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件;
能夠打印工業級復合聚合物和陶瓷光敏材料,包括與巴斯夫合作開發的全新功能工程材料。

三、微納3D打印系統打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA等。

工業級復合聚合物,例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。

個性化

高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。


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