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實驗室使用超純水的標準有哪些

閱讀:1220        發布時間:2022-11-10
  超純水是電阻率達到18MΩ*cm(25℃)的水。常用于集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外,其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
  超純水處理,是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,
  純水和超純水的水質標準
  1、避免使用沒有循環回路的超純水,以減少因物料析出和細菌生長造成的污染。
  2、持續的循環,才能保證高品質的純水和超純水。
  3、用來儲存純水的水箱應配備無菌排氣過濾器、活性炭、二氧化碳吸附劑和潛水式紫外燈,只有使用這些組件,才能保持水質持續在較高的水平。
  4、合理的消毒程序可以減少生物膜的形成,應保持良好的定期消毒的習慣。
  5、為了防止藻類的繁殖,水箱不能為透明材料制成,或應該防止在避光的柜子內,避免陽光直射。
  6、使用析出率較低的材料,如:聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)和聚四氟乙烯。當必須要使用不銹鋼時,應使用1.440l(304L,316L)或者更高級別。
  7、純化模塊應當定期更換,以保證持續的高水質,并盡量減少可能的細菌污染。
  8、應該避免純水循環中的死角和死水區域,在閑置后的每次最初啟用時,應至少排掉0.3-3L體積的初始水,這種方法在一些關鍵應用上尤為重要,例如HPLC,ICP/MS。
  9、為保證純水設備的最佳運行狀態,保證出水水質,設備應具有定期維護和定期服務的提示程序,或額外起草維保服務的協議。
  10、任何純水設備的排水口都應包含空氣閥,以防止污染。另外需要保證排水管的末端和下水道之間至少有5cm的間隙。

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