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  • Nanoscribe QX系列雙光子無掩

  • Nanoscribe推出全新Quantu

  • Quantum X shape雙光子無掩

技術文章

  • 雙光子無掩膜光刻系統利用高能激光在非線性光學晶體中產生的雙光子效應,實現對材料表面的高精度、無掩膜的光刻。這一過程中,激光束通過光學系統聚焦到光敏材料上,當激光強度足夠高時,光敏材料中的分子會同時吸收...
    2025/1/15
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  • 雙光子無掩膜光刻系統這一技術的誕生,標志著光刻技術從傳統向現代的跨越。不同于傳統的單光子光刻,雙光子光刻采用非線性吸收原理,即只有當光子密度達到ji高水平時,材料才會發生光化學反應。這一特性使得雙光子...
    2025/1/10
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  • 在微納米尺度的制造領域,激光直寫技術以其優勢,開啟了精密制造的新篇章。這項技術利用激光束在材料表面或內部直接“寫入”精細結構,無需傳統制造過程中的掩模或模具,為科研和工業應用提供了極大的靈活性和創新空...
    2024/12/21
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  • 在現代制造技術中,雙光子微納米3D打印機以其精度和創新能力,正在開啟微納結構制造的新篇章。這項技術不僅突破了傳統制造方法的局限,而且在科研探索與工業生產中開辟了新的前沿領域。技術原理與優勢雙光子微納米...
    2024/12/20
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  • 微納米激光直寫系統基于激光技術,能夠在微納米尺度上實現高精度的材料加工和器件制備。該系統通過計算機控制高精度激光束的掃描和聚焦,直接在材料表面寫入微小結構或紋理,從而實現高精度的加工和制備。微納米激光...
    2024/12/17
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  • 雙光子微納米3D打印機作為一種高精度的制造技術,正在科研和工業領域中展現出其創新應用。這項技術以其微米乃至納米級別的精確打印能力,突破了傳統制造方法的局限,為多個領域帶來了革命性的變化。在科研領域,雙...
    2024/12/11
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  • 在微納米尺度的3D打印領域,雙光子微納米3D打印機正以其精度和創新技術,不斷推動科研和工業應用的邊界。這種技術的核心在于利用雙光子聚合(2PP)實現超衍射極限的納米級制造,為高精度微結構的打印提供了可...
    2024/12/6
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  • 微納3D打印系統是一種高精度的3D打印技術,它結合了微米級和納米級的打印精度,能夠制造出具有微小尺寸和復雜形狀的物體。微納3D打印系統的工作原理主要包括光固化、電子束和激光束等方法。在打印過程中,先通...
    2024/11/30
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  • 維納3D打印機的校準流程是確保打印質量和精度的重要步驟。以下是對該流程的詳細描述:一、準備工作1.檢查設備狀態:在進行校準之前,首先要確保維納3D打印機處于良好的工作狀態。檢查設備外觀是否有損壞,各部...
    2024/10/8
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  • 雙光子無掩膜光刻系統是一種先進的微納加工技術,它利用雙光子吸收效應在激光焦點處實現高精度三維結構制備。該系統無需使用物理掩膜,通過計算機控制的光束掃描來實現復雜結構的直接寫入,廣泛應用于微納光學、生物...
    2024/9/3
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