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一·真空 晶體生長 燒結爐 源頭直供設備用途

　　主要用于LED行業的寶石類晶體制備，氟化物類晶體生長，燒結，退火等處理

二·真空 晶體生長 燒結爐 源頭直供產品特點

1·模塊化設計，結構緊湊，外形美觀，

2·采用底部電動升降和鐘罩式爐體升降，結構精巧，方便，移動平穩裝卸料方便

3· 采用觸摸屏+plc控制方式，自動化程度高，操作直觀，功能強大。

4· 在觸摸屏內可預存幾十種燒結工藝，一次編輯，以后直接調用使用，省去多次編輯工藝的麻煩，避免輸入錯誤，燒壞產品。

5· 燒結的溫度，真空度，等數據可實時記錄，也可隨時啟動停止記錄，減少無用數據，數據可查詢，可導出下載。

6· 燒結溫度高，用石墨發熱體，發熱均勻。

三·設備參數

1· 設備總功率：≤110Kw；電源電壓：3相380V,50Hz

2·加熱功率：80kw 三相380V(暫定）

2·溫度：1500℃

3·額定溫度：0~1400℃

1. 4. 工作區尺寸：Ф500×300mm（直徑×高，）

5·爐體內徑Ф1000*1200mm（暫定）

6.測溫系統：                   鎢萊熱電偶

7.控溫精度：                   ±1℃

8.加熱區：                    Ф540×600mm

9.下降速度：                  慢速升降0.1-10mm/h（伺服控制）

快速升降50-200mm/min（帶手動升降）

10.中心軸有效行程/載重：      ≤450mm/200kg

11.爐內充氣壓力：             ≤0.03MPa