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[供應]EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐
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  • EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐
貨物所在地:
河南鄭州市
產地:
鄭州
更新時間:
2024-04-08 21:00:07
有效期:
2024年4月8日 -- 2024年10月8日
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656
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產品簡介

EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金,用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。

詳細介紹

一、EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐設備用途 :

用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、真空電弧爐,非自耗電弧爐紐扣爐設備組成:

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。

三、EMDH-1000科研用真空電弧爐高溫熔煉爐設備主要技術參數:

1、型號: KDH-1000

2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室

3、真空系統配置:VRD-30直聯泵、TK-150擴散泵、三臺氣動擋板閥和各種管路

4、冷態極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa

5、熔煉電流:額定電流1000A

6、熔煉坩堝 :多工位組合銅模,可根據客戶要求定做,配有電磁攪拌,非晶吸鑄工位等

7、熔煉合金工位: (其中兩個工位帶磁攪拌)一個吸鑄工位一個熔煉除氣工位

8、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 200克,可選擇20g 30g 80g 150g不同容量的電弧爐

9、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套

10、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧

一、設備用途 :

用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、真空電弧爐,非自耗電弧爐紐扣爐設備組成:

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。

三、設備主要技術參數:

1、型號: KDH-1000

2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室

3、真空系統配置:VRD-30直聯泵、TK-150擴散泵、三臺氣動擋板閥和各種管路

4、冷態極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa

5、熔煉電流:額定電流1000A

6、熔煉坩堝 :多工位組合銅模,可根據客戶要求定做,配有電磁攪拌,非晶吸鑄工位等

7、熔煉合金工位: (其中兩個工位帶磁攪拌)一個吸鑄工位一個熔煉除氣工位

8、熔煉樣品重量 (以鐵標定) 200克,可選擇20g 30g 80g 150g不同容量的電弧爐

9、真空吸鑄裝置 提供標準吸鑄模具1套

10、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧




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