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產品簡介
200g超高溫非自耗真空電弧爐 用途廣泛：可用于超高溫金屬合金、高熵合金，稀貴金屬的冶煉制備，母合金的制備，也可用于光譜分析或合金研究的樣品制備：能夠快速獲得合適大小的均質金屬塊，方便直讀光譜儀、X 射線熒光光譜儀的快速檢測，以達到事半功倍的效果
詳細介紹
一、200g超高溫非自耗真空電弧爐設備用途 ：
用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、200g超高溫非自耗真空電弧爐設備主要技術參數：
1、型號： KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統配置：VRD-24直聯泵、JTFB-600分子泵、一臺高真空插板閥，兩臺氣動擋板閥和旁路閥及管道組成。
4、冷態極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、腔室尺寸：￠400*410
7、電源功率：60KW
8、熔煉坩堝 設計有五個工位。一個半球形帶吸鑄功能的工位，四個熔煉除氣工位。五工位均勻規則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1~3個工位可帶帶磁攪拌功能。
9、工作氣體：Ar氣；
10、翻料方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉組件
11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
12、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜
13、爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內部熔化情況。
