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KDH-500真空電弧爐爾莫新材料供應全國
1、采用高純氬氣保護，熔煉溫度可達3500℃2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣3、水冷銅電極可移動，可同時熔煉多個樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛7、桌面式設計，占地空間小，特別節約實驗空間和能源
產品簡介
詳細介紹
KDH-500熔煉爐非自耗真空電弧爐
一、 KDH-500熔煉爐非自耗真空電弧爐設備用途 ：
用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
三、KDH-500熔煉爐非自耗真空電弧爐爾莫新材料供應全國設備主要技術參數：
1、型號： KDH-500
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、具有熔煉與吸鑄功能，吸鑄模具與水冷模具套滑配，保證冷卻效果的同時，拆卸方便
4、真空系統配置：飛越直聯泵、TK-150擴散泵、三臺氣動擋板閥和各種管路
5、冷態極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa
6、熔煉電流：額定電流≤450A
7、電弧熔煉水冷坩堝：五個工位；其中有一工位用于吸鑄，容重（樣品重量）5-50(克）/熔煉池，一個長條工位容重（樣品重量）60(克；1~2個磁攪拌工位，攪拌可切換
8、攪拌方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉組件；
9、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜。