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產(chǎn)品簡介
真空熔煉噴鑄爐用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。 A· 實(shí)驗(yàn)型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料 B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料
詳細(xì)介紹
真空熔煉噴鑄爐產(chǎn)品型號：
MTZGQ-1
真空熔煉噴鑄爐產(chǎn)品特點(diǎn)：
★澆鑄 噴鑄 吸鑄；
★可一次性熔煉10~1000g金屬，并且可配置二次加料裝置
★根據(jù)模具的尺寸，可以澆鑄直徑1mm~10mm，長100~160mm的金屬或非晶棒；
★可以澆鑄金屬或者非晶板；如鋁合金、鎂合金薄壁鑄件
★金屬液自下而上地平穩(wěn)進(jìn)入空氣稀薄真空條件下的型腔，不能產(chǎn)生卷氣現(xiàn)象，氧化可能性也較小，又在真空條件下實(shí)現(xiàn)金屬液的凝固。凝固過程中析出的氣體也易上浮外逸 故鑄件中不易形成氣孔。
★鑄件晶粒細(xì)小，不易產(chǎn)生重度偏析鑄件不易形成縮松
可使鑄件獲得致密的組織，使鑄件力學(xué)性能提高