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超高壓XRD實驗時對樣品制備的要求
超高壓XRD運用成像板技術，通過成熟的工藝技術，配合高壓系統Diamond Anvil Cell Holder 670.5，通過金剛石對頂砧加壓，可實現在高達70GPa的壓力條件下研究粉末樣品（可擴展至120GPa）。
超高壓XRD實驗時對樣品制備有哪些要求？
1.金屬樣品如塊狀、板狀、圓拄狀要求磨成一個平面，面積不小于10·10毫米，如果面積太小可以用幾塊粘貼一起。
2.對于片狀、圓拄狀樣品會存在嚴重的擇優取向，衍射強度異常。因此要求測試時合理選擇響應的方向平面。
3.對于測量金屬樣品的微觀應力（晶格畸變），測量殘余奧氏體，要求樣品不能簡單粗磨，要求制備成金相樣品，并進行普通拋光或電解拋光，消除表面應變層。
4.粉末樣品要求在3克左右，如果太少也需5毫克。
5.樣品可以是金屬、非金屬、有機、無機材料粉末。
6.對于使用的、購買的各種原料一定要進行鑒定，如材料分子式，晶型，結晶度，粒度等。以免用錯原料。
7.對于不同基體的薄膜樣品，要了解檢驗確定基片的取向，X射線測量的膜厚度約20個鈉米。
8.對于纖維樣品的測試應該提出測試纖維的照射方向，是平行照射還是垂直照射，因為取向不同衍射強度也不相同。
9.對于焊接材料，如斷口、焊縫表面的衍射分析，要求斷口相對平整，提供斷口所含元素。如果一個斷口照射面積小則可用兩個或三個斷口拼起來。
10.為保證對實驗樣品有一個好的實驗結果，對于特殊的樣品可提出衍射實驗方案。