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真空氣氛箱式爐LFM1200C-7.2VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。

新能源材料設備特點：該設備是由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設計的，其滑軌式結(jié)構(gòu)設計在實驗過程中可滿足多種工藝要求

立式高溫淬火爐如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，用于催化劑焙燒，方便催化劑裝填和轉(zhuǎn)移。

薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境。該設備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各...

雙工位立式真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，封管機上有電磁閥，通電后處于常開狀態(tài)，當壓力達到設定壓力后，電磁閥自動關閉，停止進氣。 標...

簡要介紹區(qū)域熔融純化設備襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。測溫采用性能穩(wěn)...

1600系列高溫管式爐LFT1600C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬...

多溫區(qū)管式高溫高壓爐集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件，均勻分布于爐管兩側(cè)，溫場均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐...

LFT-1200C 400D60單溫區(qū)管式爐采用雙層風冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使...

溫控和移動平臺LFT1200C-VI設備設計為方便加熱爐取放物料，采用鋼絲提拉方式，伺服電機經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度進行轉(zhuǎn)動提拉，提拉速度可調(diào)（慢檔：0....

真空箱式爐LFM1200C 91VC系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。

LFM系列坩堝熔煉爐設計用于電子元件、玻璃、陶瓷粉料的預燒、燒結(jié)，亦可作為其它陶瓷產(chǎn)品、稀土元件、磁性材料等的燒成之用。保溫材料采用高純輕質(zhì)氧化鋁纖維，30段P...

真空提拉爐LFT1700C100D80-TSSGVC-2設備為真空或者氣氛保護條件下的提拉設備，樣品處理位于剛玉管內(nèi)，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波...

四工位預熱封管機 LQS-04H設備，主要用于實現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由加熱爐體、真空封管系統(tǒng)、氫氧機（共用現(xiàn)場已有設備）、分子泵...

催化反應爐LFT1200C300D10 III爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護，其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡捷，設備配有觀察窗口，透...

生物質(zhì)熱解碳化活化系統(tǒng)包括：機架、進料系統(tǒng)、反應管組件、供汽系統(tǒng)、收料系統(tǒng)、反應爐、預熱爐、裂解爐、裂解反應管、換熱器、尾氣燃燒機構(gòu)、尾氣過濾罐、吊架和電氣控制...

區(qū)融爐 LFT1200C 30D50 QR設計為有機材料或無機材料區(qū)域融化提純使用，爐體加熱區(qū)長度30mm，伺服電機經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進，行進速度...

立式淬火爐 LFT1500C 50D30 OP如圖所示，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。該設備設計為立式結(jié)構(gòu)，樣品由吊絲固定,真空腔室...

單工位高真空封管機系統(tǒng)主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧焰機、真空系統(tǒng)、石英管機管接頭組成，標準化定制石英管和石英柱保...

化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并...