首頁 >> 供求商機
賽默飛EscaLab Xi+ X射線光電子能譜儀分析性能：
●表面元素定性、定量分析
能量分析器設計和雙晶微聚焦單色化X射線源結合，實現了能量分辨率
●快速高分辨平行成像
化學成像: 空間分辨率優于1um
回溯成譜: 回溯區域優于6um
●無需背底修正探測器
電子倍增器和電阻陽極探測器的雙探測器設計，可實現高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成 像的需求。
空間連續的電阻陽極探測器創新技術，使得XPI成像分辨率達1um，同時所得數據無探測器背底特 征，無需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結果。
●微聚焦單色源
分析尺寸在20μm～900μm之間連續可調
靈敏度和能量分辨率
提供不少于20個靶材工作點，確保儀器終身使用過程中陽極靶無需更換
●自動化高效離子剖析源
新型Ar離子團簇與傳統單粒子離子源相結合，用于各類材料的深度剖析研究
●高精確度角分辨XPS
軟件控制分析位置和角度，確保數據的精確性和重復性
全套的ARXPS數據處理工具，可對納米尺度的多層結構器件進行層厚計算
●一鍵式荷電補償
配有雙束電荷中和系統，可以根據實際樣品的需要獨立控制開啟。
適用于所有不導電樣品及粗糙表面的精準荷電中和
●強大的Avantage分析軟件
全數字化儀器控制
系統軟件可視化操作
全套XPS標準數據圖庫以及化合物結構鑒定數據庫
自定義數據采集到報告生成模式
賽默飛EscaLab Xi+ X射線光電子能譜儀操作簡便：
●高度自動化
分析區域和角度分辨可選
自動化氣體調節和真空控制
●隨時校準
能量標尺和儀器功函數的校準
離子槍定位和離子束聚焦
●鼠標點擊式樣品導航
實時顯示分析位置
高照明強度、強度可調
賽默飛EscaLab Xi+ X射線光電子能譜儀設計靈活
●ISS、ARXPS與REELS為標準配置
●多功能進樣室為標準配置
●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可選
●可選的樣品預處理附件，包括：
樣品制備臺、晶體清潔器、樣品刮片器
樣品加熱/冷卻裝置
濺射清潔離子槍
蒸發器
高壓反應室
12