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磁控濺射設備的主要用途

2022-12-12  閱讀(2189)

磁控濺射設備的主要用途

電子束是PVD的一種,磁控濺射也一樣。電子束一般用于對鍍膜材料有高純度高標準要求的領域,而磁控濺射一般的應用更日常一些,比如半導體、常見的絕緣體材料、一些手機殼,這下不再覺得磁控濺射遙遠了吧。而且磁控濺射的優點也很明顯、很接地氣:設備簡單、易于操控、鍍膜面積大等等。

磁控濺射系統是利用靶材背面的強力磁鐵促進陰極表層電離,利用磁場使離子與靶材碰撞,噴射出金屬分子的原理。
黃金和鉑金等貴金屬主要用于電子顯微鏡應用。我們還有一系列可以濺射其他金屬靶材的型號。

用于電子顯微鏡的濺射,主要顆粒尺寸的比較


Au:金
觀察區域:幾千到10,000倍
Au-Pd:金鈀
觀察區域:10,000到50,000倍
適合低倍觀察,對比度好。

Pt:鉑
觀察面積:50000~100000倍
Pt--Pd:鉑鈀
觀察面積:30000~50000倍
粒徑細,常用于高倍觀察。

W:鎢
觀察倍率:100,000倍以上
粒徑具有與鋨相當的細度,可以在比鉑更高的倍率范圍內進行觀察。

那么,磁控濺射設備的主要用途有哪些呢?

1.被應用于裝飾領域,被制成全反射及半透明膜,比如我們常用常換常買的手機殼,沒想到吧;

2.被應用于機械加工行業中提高涂層產品的壽命壽命。因為濺射磁控鍍膜能夠有效提高表面硬度、韌性、耐磨抗損以及耐化學侵蝕、耐高溫,從而達到提高產品壽命的作用;

3.被應用于微電子領域。在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機;

4.被應用于在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池等方面的研究,發揮了非常重大且重要的作用;

5.被應用于各種功能性薄膜的制作。比如具有反射、折射、透射作用的薄膜;具有吸收、偏光等作用的薄膜;

6.被應用于光學領域。比如被廣泛應用于平板顯示器件的透明導電玻璃、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器的生產,都離不開磁控濺射技術。

相關產品介紹

設備特征目標金屬
MSP-mini
超小型濺射設備
對于光學顯微鏡,這是適合制作有光澤的 Ag 薄膜以及 SEM 和臺式 SEM 預處理的裝置。
MSP-1S
是一款帶有內置泵的緊湊型濺射系統。
也可用于濺射鉑靶,可用于高達約50,000倍的高倍率觀察。




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