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如何解決半導體圓晶生產過程中清潔效果不一致出現的問題

2022-11-18  閱讀(1112)

如何解決半導體圓晶生產過程中清潔效果不一致出現的問題

半導體間歇式清洗設備清洗液成分配比不穩定,清洗效果不一致。

我在半導體晶圓制造現場,但我在清潔過程中遇到了一些問題。

在批量清洗中,有些成分會蒸發,尤其是在液體達到高溫的情況下。

但由于是液體,易蒸發,易起泡,普通的計量泵會造成氣鎖。

它還要求定量、清潔和耐腐蝕。

我們推薦具有高分配性能并且每次注射能夠注入少量 1 mL 的 CFD 型泵。

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在這種情況下,我們推薦每次注射可注入少量 1 mL 的“CFD 型泵"。

CFD 型泵具有氣泡容易排出的結構,因此氣泡不會留在泵內。

此外,接液部采用氟樹脂制成,是一款清潔度高、耐腐蝕的泵。此外,CFD-1T-B 型號具有 1 mL/shot 的出色分辨率,適合保持化學溶液的成分比恒定。基于以上原因,我們認為“CFD型泵"可以解決半導體間歇式清洗設備的清洗液問題。請考慮這個機會。

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1 mL 1 shot,高精度控制晶圓清洗液濃度化學品補給泵CFD

• 所有接液部件均由氟樹脂制成,與酸、堿、氫等化學品兼容

• 行程長度可輕松調節,每次最多可排放2.7 mL

• 泄漏傳感器是標準配置 設備





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