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硬涂層等膜厚測量設備-反射光譜膜厚儀介紹

2022-7-12  閱讀(1249)

硬涂層等膜厚測量設備-反射光譜膜厚儀介紹

[原理]
當樣品被光照射時,它顯示出取決于膜厚度的*光譜。在薄膜表面反射的光與穿過薄膜并在基板表面反射的光相互干涉。當光的相位匹配時,強度增加,當光相移時,強度降低。反射計是一種通過分析該光譜來測量薄膜厚度的方法。

[特點]
與 SEM 和觸針式輪廓儀不同,可以非接觸式測量。
? 比橢偏儀更便宜、更容易使用。

[規格]

模型AFW-100W
利用一般膜厚
設備配置本體、測量臺、2支光纖(1.5m)、PC
測量波長范圍380-1050nm
膜厚測量范圍100nm~1μm(曲線擬合法)
1 μm-60 μm (FFT)
測量再現性0.2%-1%(視膠片質量而定)
測量光斑直徑約7mm
光源12V-50W 鹵素
測量理論曲線擬合法/FFT法
外形尺寸(mm)測量臺:W150 x D150 x H115
機身:W230 x D230 x H135
近似重量5.5kg * 不包括電腦
效用AC100V 50 / 60Hz
轟天猛將鹵素燈




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