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參考價(jià)	面議

CVD氣相沉積系統(tǒng)

全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)子流量計(jì)能夠準(zhǔn)確控制系統(tǒng)的供氣；全自動CVD滑軌爐真空泵可實(shí)現(xiàn)對管式爐快速抽真空。

詳細(xì)介紹

全自動CVD滑軌爐設(shè)備操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗(yàn)。

全自動CVD滑軌爐技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	明細(xì)
供電電壓	AC220V，50Hz
整機(jī)功率	5KW
工作溫度	≤1100℃
加熱速率	建議10℃/min
爐管尺寸	O.D.50mm-220mm-220mm（加熱區(qū)）-1200mm管長
控溫精度	0.1℃
溫區(qū)	雙溫區(qū)
混氣系統(tǒng)	4路質(zhì)子流量計(jì)：100sccm1個；200sccm1個；500sccm2個
真空泵	雙極旋片真空泵

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