目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-TRP真空磁控濺射鍍膜系統
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
真空磁控濺射鍍膜系統設備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
磁控鍍膜儀典型應用：
• 科研領域：納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。
• 電子行業：半導體、傳感器、導電薄膜制備。
• 教學演示：材料科學、真空技術實驗教學。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業及教學領域，體現其多功能性和廣泛應用價值：
真空磁控濺射鍍膜系統技術參數：
真空室 | 圓筒型前開門結構，尺寸?450×40mm | |
真空系統配置 | 復合分子泵、機械泵、氣動閘板閥、進口SMC氣缸節流閥 | |
極限壓力 | ≤6.6 *10-6 Pa。（經烘烤除氣后） | |
恢復真空時間 | 25 分鐘可達到≤6.6×10-6 Pa。（短時間撰茲大氣并充入干燥氮氣后開始抽氣） | |
磁控靶組件 | 永磁靶三套；靶材尺寸?60mm（其中一個可濺射磁性材料）；各靶射頻灘射和直流裁射兼容；靶內水冷；三個靶可共同折向上面的樣品中心；靶與樣品距離 90~130mm可調；每個靶配進口 SMC 旋轉氣動擋板 | |
單基片加熱臺 | 樣品尺寸 | ?4英寸 |
運動方式 | 基片可連續回轉，轉速 0－30 轉/分 | |
加熱 | 進口加熱絲加熱，zui高加熱溫度 600℃ ±1℃ | |
擋板形式 | 進口 SMC 轉角氣缸控制 | |
氣路系統 | 質 量 流 量 控制器 2 路 | |
計算機控制系統 | 采用 PLC ＋工控機＋觸摸屏全自動控制方式 | |
可選配件 | 膜厚儀、氣泵、水冷循環機 | |
設備占地面積 | 主機 | I000×1800mm2 |
電控柜 | 900×600mm2 | |
免責聲明：本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)，僅供參考。可能由于更新不及時，會造成所述內容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
1
化工儀器網