目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-HVM高真空磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
真空室 | 梨型真空室，尺寸? 560×350mm | |
真空系統配置 | 復合分子泵、機械泵、閘板閥 | |
極限壓力 | 2.0 * 10-5 Pa （經烘烤除氣后） | |
恢復真空時間： | 40 分鐘可達到6 .6*10-4 Pa 。（系統短時間暴露大氣并充入干燥氮氣后開始抽氣）
| |
磁控靶組件 | 永磁靶5套；靶材尺寸?60mm（其中一個可濺射磁性材料）；各靶射頻灘射和直流裁射兼容；靶內水冷；靶與樣品距離 90~130mm可調；
| |
基片水冷加熱公轉臺 | 基片結構 | 設計6個工位，其中１個工位安裝加熱爐，其余工位為水冷基片臺 |
樣品尺寸 | ?30mm，可放置6片 | |
運動方式 | 0?360℃往復回轉 | |
加熱 | 基片加熱*高溫度600℃±1℃ | |
基片負偏壓 | －200Ｖ | |
氣路系統 | 質 量 流 量 控制器 2 路 | |
計算機控制系統 | 控制樣品轉動，擋板開關，靶位確認等 | |
設備占地面積 | 主機 | 1300×800mm2 |
電控柜 | 700×700m2 | |
免責聲明：本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)，僅供參考。可能由于更新不及時，會造成所述內容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
1
化工儀器網