目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MS磁控濺射系統
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
磁控濺射系統設備用途：
用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜（Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等），并能夠實現反應濺射，可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝，具備較大尺寸和多種尺寸規格的晶體硅光伏電池薄膜的連續制備能力。
磁控鍍膜儀典型應用：
• 科研領域：納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。
• 電子行業：半導體、傳感器、導電薄膜制備。
• 教學演示：材料科學、真空技術實驗教學。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業及教學領域，體現其多功能性和廣泛應用價值：
磁控濺射系統技術參數：
型號 | CY-in-line | |
主濺真空室 | 方形真空室，尺寸? 1000×700×350mm | |
進樣室 | 圓筒型，臥室，尺寸? 250×420mm | |
真空系統配置 | 分子泵與機械泵，閘板閥 | |
極限壓力 | 主濺射室 | ≦8*10-5Pa（經烘烤除氣后） |
進樣室 | ≦6.6*10-4Pa（經烘烤除氣后） | |
恢復真空時間 | 主濺射室 | 40分鐘可達到6.6*10-4Pa（系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣） |
進樣室 | 40分鐘可達到6.6*10-3Pa（系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣） | |
磁控靶組件 | 矩形靶尺寸約450*45mm；靶與樣品距離80mm可調
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基片加熱臺 | 基片結構 | 尺寸125*125mm或156*156mm，可一次安裝4片樣品 |
加熱溫度 | 室溫~400Ｃ±2 C，可控可調 | |
氣路系統 | 質量流量控制器3路 | |
設備占地面積 | 主機 | 2655 * 930mm2 |
電控柜 | 700 *700mm2（兩個） | |
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