桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設備為實驗室真空PVD鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。

以下是單靶磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業及教學領域，體現其多功能性和廣泛應用價值：

1. 科研領域——納米光學薄膜制備

應用場景：某高校光學實驗室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉積納米級金薄膜，用于表面等離子體共振（SPR）傳感器研究。優勢：

膜厚可控（10~200nm），均勻性高（±3%），確保光學性能穩定。

真空環境避免氧化，獲得高純度納米金膜。

2. 電子行業——透明導電薄膜（ITO）鍍膜

應用場景：柔性電子企業使用ITO靶（氧化銦錫）在PET塑料基材上鍍制透明導電層，用于觸摸屏電極。優勢：

低功率濺射（RF模式）避免基材熱損傷，膜層電阻≤100 Ω/sq。

桌面型設備節省空間，適合小批量試產。

3. 材料改性——刀具硬質涂層（TiN）

應用場景：機械加工實驗室在高速鋼刀具表面鍍TiN（氮化鈦）涂層，提升耐磨性。工藝要點：

通入氮氣反應濺射，形成金黃色TiN膜，硬度達2000 HV。

基片加熱至300°C，增強膜基結合力。

桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀技術參數：