目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH300-II-RF?DC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩定工作。與同類設備相比，這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，且體積小便于操作，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
項目 | 明細 | |
| 產品型號 | CY-MSH300-II-RFDC-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機功率 | 3KW | |
極限真空度 | 10-6torr | |
載樣臺參數
| 尺寸 | φ140mm |
加熱溫度 | *高500℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
轉速 | 1-20rpm可調 | |
磁控濺射頭參數
| 數量 | 2個2"磁控濺射頭 |
冷卻方式 | 水冷，所需流速10L/min | |
水冷機規格 | 16L/min流速的循環水冷機 | |
真空腔體
| 腔體尺寸 | φ300mm X 300mm H |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
觀察窗口 | φ100mm | |
開啟方式 | 上頂開式，便于更換靶材 | |
氣體流量控制器 | 4路分別通N2，Ar，O2，空氣；量程均為0-500sccm | |
真空泵 | 配有一套分子泵系統，抽速600L/S | |
膜厚儀 | 石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源一臺，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源一臺，300W，適用于非金屬鍍膜 | |
操作方式 | 面板按鈕操作 | |
整機尺寸 | 1400mm X 750mm X 1300mm | |
整機重量 | 300kg | |
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