本設備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。

磁控鍍膜儀典型應用：

•    科研領域：納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。

•    電子行業：半導體、傳感器、導電薄膜制備。

•    教學演示：材料科學、真空技術實驗教學。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業及教學領域，體現其多功能性和廣泛應用價值：

桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體技術參數：