目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ254-I-DC-SS桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍
| 參考價(jià) | ￥ 185000 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
| ￥185000 |
| ≥1臺(tái) |
更新時(shí)間：2025-08-05 14:27:45瀏覽次數(shù)：34評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-30萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天 |
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。
高效鍍膜：采用磁控濺射技術(shù)，沉積速率高，薄膜均勻性好。
多功能應(yīng)用：支持多種靶材和基材，適用于不同材料的薄膜沉積。
智能控制：配備的控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的工藝參數(shù)控制。
模塊化設(shè)計(jì)：方便維護(hù)和升級(jí)，可根據(jù)需求定制各種功能模塊。
環(huán)境友好：低能耗設(shè)計(jì)，減少對(duì)環(huán)境的影響。
參數(shù)名稱(chēng) | 參數(shù)說(shuō)明 | |
產(chǎn)品名稱(chēng) | 桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSZ254-I-DC-SS | |
真空腔 | 腔體材質(zhì) | 304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理 |
取放模式 | 前開(kāi)門(mén)方式取放樣品和靶材 | |
觀察窗 | 直徑100mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染 | |
樣品臺(tái) | 樣品尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
旋轉(zhuǎn)速度 | 不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型（0-30RPM）可選 | |
加熱溫度 | RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可選 | |
磁控靶 | 靶槍類(lèi)型 | 普通永磁靶，可調(diào)角度 |
靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | |
濺射功率 | 300W | |
濺射方式 | 直流濺射 | |
工作真空 | 0.3-3Pa | |
電源 | 直流電源 300W *2 | |
濺射氣體 | 高純氬氣，純度99.99% | |
真空測(cè)量 | 復(fù)合真空計(jì)，電阻規(guī)+電離規(guī)，測(cè)量范圍：105-10-5Pa | |
真空獲取 | 前級(jí)泵 | 抽速 1.1L/S |
分子泵 | 抽速 600L/S | |
膜厚測(cè)量 | 通常配CYKY膜厚測(cè)量?jī)x | |
也可選配進(jìn)口品牌，價(jià)格額外計(jì)算 | ||
外形尺寸 | 550mm*350mm*450mm | |
包裝尺寸 | 770×720*730mm | |
包裝重量 | 110 KG | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
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