目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ300-I-DC-Q桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
本設備為桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀，磁控靶偏置于腔體一側，濺射范圍可覆蓋樣品臺一半，通過樣品臺旋轉可以實現更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設備結構緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。
磁控鍍膜儀典型應用：
• 科研領域：納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。
• 電子行業(yè)：半導體、傳感器、導電薄膜制備。
• 教學演示：材料科學、真空技術實驗教學。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學領域，體現其多功能性和廣泛應用價值：
CY-MSZ300G-I-DC-Q 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀 | ||
樣品臺 | 尺寸 | φ150mm |
轉速 | 轉速0-20rpm可調 | |
磁控濺射靶 | 數量 | 2" x1 偏置于腔體一側 |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ300mm X 200mm |
觀察窗口 | 全向可視 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
開啟方式 | 頂蓋拆卸式 | |
下法蘭 | 裝有旋轉式樣品臺及進出氣口 | |
真空系統 | 機械泵 | 雙級旋片泵 |
抽氣接口 | KF16 | |
分子泵 | 渦輪分子泵 | |
抽氣接口 | KF40 | |
真空測量 | 電阻規(guī)+電離規(guī)復合真空計 | |
排氣接口 | KF40 | |
極限真空 | 1.0E-3Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 前級泵 1.1L/s 分子泵：60L/S | |
電源配置 | 數量 | 直流電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源300W | |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機尺寸 | 500mm X 320mm X6200mm | |
整機功率 | 2kW | |
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