UPS三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導(dǎo)電膜，合金膜，半導(dǎo)體膜，陶瓷膜，介電膜，光學(xué)膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 與同類設(shè)備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優(yōu)點，是實驗室制備材料膜的理想設(shè)備。

磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價值：

 1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備

·         應(yīng)用場景：某高校光學(xué)實驗室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉積納米級金薄膜，用于表面等離子體共振（SPR）傳感器研究。
優(yōu)勢：

·         膜厚可控（10~200nm），均勻性高（±3%），確保光學(xué)性能穩(wěn)定。

·         真空環(huán)境避免氧化，獲得高純度納米金膜。

2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜

·         應(yīng)用場景：柔性電子企業(yè)使用ITO靶（氧化銦錫）在PET塑料基材上鍍制透明導(dǎo)電層，用于觸摸屏電極。
優(yōu)勢：

·         低功率濺射（RF模式）避免基材熱損傷，膜層電阻≤100 Ω/sq。

·         桌面型設(shè)備節(jié)省空間，適合小批量試產(chǎn)。

3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）

·         應(yīng)用場景：機械加工實驗室在高速鋼刀具表面鍍TiN（氮化鈦）涂層，提升耐磨性。
工藝要點：

·         通入氮氣反應(yīng)濺射，形成金黃色TiN膜，硬度達2000 HV。

·         基片加熱至300°C，增強膜基結(jié)合力。

 4. 教學(xué)演示——磁控濺射原理實驗

·         應(yīng)用場景：大學(xué)材料學(xué)院開設(shè)《薄膜技術(shù)》課程，學(xué)生用Al靶（鋁靶）在硅片上鍍膜，觀察沉積速率與氣壓的關(guān)系。
教學(xué)價值：

·         直觀展示真空鍍膜流程，幫助學(xué)生理解濺射機理。

·         小型設(shè)備安全易操作，適合分組實驗。

 5. 新能源——太陽能電池電極（Ag）

·         應(yīng)用場景：光伏研究所用Ag靶（銀靶）在硅片背面鍍制電極，減少接觸電阻。
效果：

·         高導(dǎo)電銀膜（電阻率<2 μΩ·cm）提升電池轉(zhuǎn)換效率。

·         靶材利用率＞70%，降低實驗成本。

UPS三靶磁控濺射鍍膜機技術(shù)參數(shù)  ：