目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
鍍膜儀配有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求；儀器標配的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
磁控濺射鍍膜儀(直流電源+射頻電源) | ||
產(chǎn)品型號 | CY-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
樣品臺 | 尺寸 | φ140mm |
控溫精度 | ±1℃ | |
加熱溫度 | *高500℃ | |
轉速 | 1-20rpm可調(diào) | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2" x3 （1",2"可選） |
水冷機規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機 | |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Dia.300mm×300mm |
觀察窗口 | φ100mm | |
開啟方式 | 上頂開式 | |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
質量流量計 | 2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） | |
真空系統(tǒng) | 產(chǎn)品型號 | CY-GZK103-A |
抽氣接口 | CF160 | |
分子泵 | CY-600 | |
排氣接口 | KF40 | |
前極泵 | 旋片泵 | |
真空測量 | 復合真空計 | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa | |
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源x2 射頻電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源500W 射頻電源500W | |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機尺寸 | 600mm X 650mm X 1280mm | |
整機重量 | 300kg | |
整機功率 | 4KW | |
極限真空度 | 1.0E-5Pa | |
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