目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180-I-RF-SS臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
產品名稱 | 桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產品型號 | CY-MSZ180-I-RF-SS | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
可調轉速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 215mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | SUU304不銹鋼 | |
開啟方式 | 上頂開式 | |
真空系統 | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復合真空計，量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s | |
電源配置 | 電源數量 | 直流電源一套 |
輸出功率 | 300W | |
其他參數 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機功率 | 2kW | |
整機尺寸 | 550mm X 350mm X400mm | |
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀，經優化設計，結構緊湊，體積較小，特別適合放在實驗桌上使用，可高效節省實驗室的安裝空間。設備配有射頻電源，用于濺射非金屬薄膜，同時具有速度快，溫度低等特點。
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