往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜儀是一款緊湊高效的實(shí)驗(yàn)室級(jí)鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)，可在真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)金屬、合金、氧化物等多種材料的均勻鍍膜。其小型化設(shè)計(jì)適合科研院所、高校實(shí)驗(yàn)室及企業(yè)研發(fā)中心，滿足小樣品鍍膜需求，兼顧高精度、操作便捷和低成本的特點(diǎn)。

往復(fù)樣品臺(tái)單靶磁控鍍膜儀適用范圍：  

該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控鍍膜儀與同類設(shè)備相比，經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

單靶磁控鍍膜儀核心特點(diǎn)

1.    小巧高效

o    桌面式設(shè)計(jì)，節(jié)省空間，適合實(shí)驗(yàn)室環(huán)境，無需復(fù)雜安裝。

o    快速抽真空系統(tǒng)，縮短實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備時(shí)間。

2.    單靶磁控濺射

o    支持1種靶材（如Au、Ag、Ti、ITO等），鍍膜純凈，附著力強(qiáng)。

o    可調(diào)節(jié)濺射功率、氣壓和沉積時(shí)間，實(shí)現(xiàn)膜厚可控（納米至微米級(jí)）。

3.    廣泛兼容性

o    適用于硅片、玻璃、聚合物等多種基材。

o    可選配加熱基片臺(tái)，提升膜層致密性。

4.    用戶友好

o    觸摸屏或PC控制，參數(shù)可視化，操作簡單。

o    模塊化設(shè)計(jì)，便于維護(hù)和靶材更換。

• 單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：