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Hellma材料CaF2多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)的光刻中的光學關(guān)鍵材料。CaF2被確立為投影和照明光學中準分子激光光學的工業(yè)標準材料。CaF2的光學特性使其能夠用于各種*應(yīng)用。





應(yīng)用程序

Hellma Materials CaF2由于其的光學質(zhì)量和在UV、VIS和IR光譜范圍內(nèi)的優(yōu)異透射率，可用于多種用途：



紅外光學

天文儀器光學

天基光學

顯微鏡光學

光譜學

紫外線光學

激光窗口

準分子激光光學

微光刻光學

優(yōu)點

Hellma Materials的Lithtec®CaF2具有的光學特性：



從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm到8µm）

低折射率（nd=1.43384）

低光譜色散（vd=95.23）

Excimer激光光學器件的激光耐久性（157nm、193nm、248nm）

合格的高能粒子和輻射抗性

直徑可達420mmHellma材料CaF2多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)的光刻中的光學關(guān)鍵材料。CaF2被確立為投影和照明光學中準分子激光光學的工業(yè)標準材料。CaF2的光學特性使其能夠用于各種*應(yīng)用。





應(yīng)用程序

Hellma Materials CaF2由于其的光學質(zhì)量和在UV、VIS和IR光譜范圍內(nèi)的優(yōu)異透射率，可用于多種用途：