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高精度蠕動泵與半導體行業(yè)的關(guān)系
閱讀：438 發(fā)布時間：2019-4-22
高精度蠕動泵與半導體行業(yè)的關(guān)系
許多實驗室及輕工制造商對高精度蠕動泵的要求非常嚴格，要確保實驗結(jié)果的準確性、數(shù)據(jù)的可靠性，保證生產(chǎn)流程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。因此在物料的傳輸，各種試劑的計量和添加應(yīng)用中，要求高精度蠕動泵傳輸精度高，穩(wěn)定性好，操作簡便及維護簡單。
高精度蠕動泵是一種能選擇流量、地得到您所需的液量、能設(shè)定工作時間、可以連續(xù)循環(huán)地間隙運轉(zhuǎn)、自動計算流量和輸送量等。當輸液量達到預(yù)置量后會自動發(fā)出聲音報警，還具有斷電數(shù)據(jù)保護功能，在工作停止關(guān)機后，再一次打開還能繼續(xù)上一次使用設(shè)定的各項數(shù)據(jù)。
半導體制造要求始終控制工藝工具中的液體流動，苛刻的應(yīng)用之一是化學機械平坦化（CMP）。當CMP工具不能將一致的漿料速率分配到拋光基材上時，它會對產(chǎn)量，化學品使用和材料完整性產(chǎn)生極大的負面影響。晶圓厚度的變化，缺陷密度的增加，工具停機時間和晶圓廢料的增加只是流程控制不良可能導致的一些問題。
高精度蠕動泵非常適合半導體行業(yè)的高純度和腐蝕性化學環(huán)境，對于CMP，提供了在拋光過程中的使用點漿料流分配到晶片所需的線性和可重復性，低剪切力對CMP漿料溫和，其變速操作允許在很寬的操作范圍內(nèi)控制流量，以保持過程的完整性。
漿料的性能可實現(xiàn)的晶圓平面度，高精度蠕動泵通過控制漿料輸送和分配，有助于實現(xiàn)這一目標。高精度蠕動泵的非侵入式設(shè)計提供了直的流動路徑，沒有死流區(qū)域，使?jié){料凝聚，硬化并污染過程。流速達到±0.5％。提供的穩(wěn)定的流體輸送不僅可確保漿料不斷流向拋光墊，還可減少漿料，化學品和去離子水的浪費。
許多實驗室及輕工制造商對高精度蠕動泵的要求非常嚴格，要確保實驗結(jié)果的準確性、數(shù)據(jù)的可靠性，保證生產(chǎn)流程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。因此在物料的傳輸，各種試劑的計量和添加應(yīng)用中，要求高精度蠕動泵傳輸精度高，穩(wěn)定性好，操作簡便及維護簡單。
高精度蠕動泵是一種能選擇流量、地得到您所需的液量、能設(shè)定工作時間、可以連續(xù)循環(huán)地間隙運轉(zhuǎn)、自動計算流量和輸送量等。當輸液量達到預(yù)置量后會自動發(fā)出聲音報警，還具有斷電數(shù)據(jù)保護功能，在工作停止關(guān)機后，再一次打開還能繼續(xù)上一次使用設(shè)定的各項數(shù)據(jù)。
半導體制造要求始終控制工藝工具中的液體流動，苛刻的應(yīng)用之一是化學機械平坦化（CMP）。當CMP工具不能將一致的漿料速率分配到拋光基材上時，它會對產(chǎn)量，化學品使用和材料完整性產(chǎn)生極大的負面影響。晶圓厚度的變化，缺陷密度的增加，工具停機時間和晶圓廢料的增加只是流程控制不良可能導致的一些問題。
高精度蠕動泵非常適合半導體行業(yè)的高純度和腐蝕性化學環(huán)境，對于CMP，提供了在拋光過程中的使用點漿料流分配到晶片所需的線性和可重復性，低剪切力對CMP漿料溫和，其變速操作允許在很寬的操作范圍內(nèi)控制流量，以保持過程的完整性。
漿料的性能可實現(xiàn)的晶圓平面度，高精度蠕動泵通過控制漿料輸送和分配，有助于實現(xiàn)這一目標。高精度蠕動泵的非侵入式設(shè)計提供了直的流動路徑，沒有死流區(qū)域，使?jié){料凝聚，硬化并污染過程。流速達到±0.5％。提供的穩(wěn)定的流體輸送不僅可確保漿料不斷流向拋光墊，還可減少漿料，化學品和去離子水的浪費。