半導體制造對水質要求近乎苛刻，上海某芯片生產企業在光刻、蝕刻工序中，每日產生 1500 噸含氟、氨氮的酸性廢水，雖現有處理設施能實現達標排放，但高昂的自來水采購成本（年支出超 2000 萬元）與廢水外排指標限制，成為企業擴產瓶頸。經企業高層對多家環保企業進行考察后，于 5 月 15 日委托杰魯特進行技術升級。

檢測數據顯示，廢水含氫氟酸濃度 800mg/L、氨氮 500mg/L、pH 值 1.5，且含有微量重金屬離子。傳統中和沉淀法雖能去除大部分污染物，但產水水質無法滿足半導體生產用水電阻率＞18MΩ?cm 的要求。杰魯特技術團隊經小試實驗，開發出 “分級中和 - 離子交換 - 電去離子（EDI）" 的超純水回用工藝。

工藝前端采用 “石灰乳分段中和 + 板框壓濾"，將氟離子濃度降至 10mg/L 以下；中段利用螯合樹脂選擇性吸附重金屬，配合反滲透膜系統實現鹽分截留；后端通過 EDI 裝置進一步去除溶解性離子，產水電阻率穩定在 18.2MΩ?cm，各項指標達到 SEMI 國際標準。為應對水質波動，系統配置在線氟離子檢測儀、電阻率傳感器，實時聯動加藥系統與膜清洗程序

企業對中試數據高度認可，5 月 22 日簽訂總承包合同。項目建成后，廢水回用率將達 90%，每年節省水費 1800 萬元，同時減少 80% 的廢水排放量，為企業新增 20% 的產能空間。