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結構分析場發射掃描電鏡/ ULTRA系列掃描電鏡
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貨物所在地: 廣東深圳市
更新時間: 2025-07-30 08:52:58
期: 2025年7月30日--2026年1月27日
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產品簡介

結構分析場發射掃描電鏡/ ULTRA系列掃描電鏡儀器簡介:
在SUPRA™場發射掃描電子顯微鏡基礎上發展起來的ULTRA 場發射掃描電子顯微鏡是用于納米結構分析的電子束成像儀器中的*,它接收效率高、可以超高分辨率成像。開發的能量選擇式背散射電子探測器(EsB)和角度選擇式背散射電子探測器(AsB)則代表了*的GEMINI®技術的發展。

詳細介紹

結構分析場發射掃描電鏡/ ULTRA系列掃描電鏡ULTRA綜合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次電子探測器、用于清晰的組分襯度的EsB探測器和用于采集晶體通道信息的AsB探測器。同步的實時成像與信號混合功能提供了*的成像能力。 
EsB探測器包含有一個過濾柵網,通過它可實現高分辨率背散射電子成像,讓以前無法看見的細節歷歷在目。
卡爾.蔡司*的荷電補償功能在使用所有探測器時,都可以分析非導電樣品 

? 低加速電壓時的超高分辨率二次電子和背散射電子成像 
? 用于在納米尺度上實現組分襯度成像的高效EsB / AsB探測器 
? 精確控制的超大自動優中心(eucentric)樣品臺 
? 背散射電子和二次電子信號的實時成像與混合功能 
? 抑制不導電樣品的荷電效應 
? 用于X射線分析和背散射電子衍射(EBSD)應用的超穩定束流模式

結構分析場發射掃描電鏡/ ULTRA系列掃描電鏡技術參數:

ULTRA基本規格

分辨率

1.0 nm @ 15 kV

1.7 nm @ 1 kV

4.0 nm @ 0.1 kV

加速電壓

0.1 - 30 kV

探測電流

4 pA - 20 nA

放大倍數

12 - 900,000x

電子槍

熱場發射

標準探測器

鏡筒內置式In-Lens二次電子探測器和EsB探測器,樣品室內AsB探測器和ET探測器

圖象處理

7種積分和平均模式

系統控制

基于Windows® XP的SmartSEM™

 

ULTRA 55SE

成像與測量工作站

主要特點:

ULTRA——*的成像工具

看得更多——超高分辨率的SE與BSE同步成像 
看得更清——精確的*成像能力 
看得更細——納米尺度上進行組分分析的利器 
簡便易用——全面集成的鏡筒內置式背散射電子探測器(EsB)和二次電子探測器(In-lens     detector) 
遠離荷電——Ultra plus中安裝有荷電補償器,實現了不導電樣品的清晰、精確成像 

 

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