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陰離子色譜柱的保護貯放和清洗溶液的使用

閱讀:4343      發(fā)布時間:2020-11-25
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   陰離子色譜柱使用簡單的等度碳酸鹽/碳酸氫鹽洗脫液,可以快速分離各種樣品基質(包括飲用水、廢水、工藝液流和洗滌液)中的常見無機陰離子。
 
  陰離子色譜柱的保護:
  操作壓力,一般情況下離子排斥操作壓力不是很高,因此要注意較大壓力和較大流速,以免造成不可逆損失。
  啟動,對于長期不用的色譜柱,用淋洗液沖洗20分鐘,清除色譜固定相中的聚合物,以保護抑制器不被損壞。按測試色譜條件測試離子排斥分離度和重現性。
  貯放
  對于長期貯放離子排斥,需要用貯備液沖洗10分鐘,擰緊兩封口中。
 
  陰離子色譜柱的清洗溶液:
  a、高濃度的氫氧化物溶液如10倍的淋洗液用于去除低價親水性污染物;
 
  b、用1至3MHCl去除高價親水性離子;
 
  c、金屬污染物會影響色譜峰形/改變被測物的回收率。如鐵的污染會導致多聚磷酸鹽的峰高減少,然而通過連接注射多聚磷酸樣品,可以去除鐵離子,也可以用1至3MHCl去除金屬污染物,如果用酸處理仍不能除去污染物,可以采用螯合劑如0。2M草酸來處理;
 
  d、有機污染物指非離子化合物或親脂性化合物,可以采用兼容的有機溶劑去除;
 
  e、在用有機溶劑清洗的同時,也可以加入高濃度的酸如1至3M鹽酸,用酸來抑制電離及污染物與樹脂之間的相互作用。通用的清洗溶液為200mMHCl和80%乙腈,溶液配制后立即使用,因為乙腈在酸性長期貯存條件下會分解。

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