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Model 6020 全自動掩模曝光機

Model 6020 全自動掩模曝光機

6020 型是一款針對先布線型面板級*封裝（PLP）及大尺寸玻璃面板曝光市場需求而設計的大面積全自動生產型掩模對準器或自動泛光曝光系統。該系統采用 OAI *的光束光學技術，配備 1KW-8KW 功率的紫外光源，光束尺寸覆蓋 12 英寸 ×12 英寸至 20 英寸 ×20 英寸，提供均勻度≤3%-5% 的光束。在掩模對準模式下，系統可實現≤2.0μm 的光刻分辨率。

頂面 / 底面對準

高吞吐量

1 千瓦–8 千瓦準直光束光源，光束尺寸從 12 平方英寸到 20 平方英寸

光源光束均勻性達 3-5%

用于自動對準的高速編碼器和電機

SECS/GEM 通信協議兼容性

多種面板處理能力

12 平方英寸到 20 平方英寸的面板

可選分步卡盤，用于子面板加工

14 平方英寸到 24 平方英寸的掩模插入件

楔形效應調平

工藝重復性

<2.0 微米的印刷分辨率

遠程診斷

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關鍵特性

高精度對準系統：可選配 Smart cam 高分辨率 CCD 相機系統，結合 OAI 圖案識別軟件，實現精確的頂面自動對準和便捷操作。
靈活的基板處理能力：支持從超薄到超厚及鍵合面板等多種基板厚度，基板卡盤具備 XYZ 軸及 θ 角運動功能，含步進功能，可處理整版或拼接在大面板上的子面板。
自動化集成方案：采用機器人上下料系統，可獨立運行或與光刻膠處理設備集成。
工藝穩定性保障：OAI 6020 系列在性能、可靠性和重復性方面優秀表現，是先布線型面板級封裝生產及大面積玻璃面板曝光的理想選擇。

Model 6020 全自動掩模曝光機

Model 6020 全自動掩模曝光機規格參數

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