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Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

在半導體行業，OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗，以專為研發及半自動生產設計的光刻設備，應對動態市場日益增長的挑戰。800E 型基于經實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造，是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統，在該價格段性價比高。對準器搭載 OAI 優良光束光學技術，良好均勻性。借助 OAI 精密光刻模塊可實現升級，800E 型成為實驗室或現場適用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存儲功能，還配備操縱桿控制的對準和光學載臺，可配置非接觸式三點楔效應校正及自動對準功能。這些特性組合常見于更昂貴的掩模對準器，而 800E 型以實惠價格即可提供。

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標準正面特性

配備雙 100 萬像素分辨率的千兆以太網（GIGE）CCD 相機
可處理最大 8 英寸見方的基板，掩模最大為 9 英寸 ×9 英寸
由帶配方存儲功能的 Windows 電腦控制
電動操縱桿用于對準和定位
曝光模式：真空、硬接觸、軟接觸和接近式
自動楔效應補償

標準背面特性

包含上述所有正面特性，另加：
額外配備 2 個相機（共 4 個）
數字變焦功能
電動背面光學聚焦

標準背面特性

半自動正面對準背面對準優良光束光學系統2相機和4相機版本多種可選配置

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機規格參數

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