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當前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺-圖形發生>>Hybrid Bonding 混合鍵合>> EVG 320 Wafer CleaningEVG 320 自動化單晶圓清洗系統

EVG 320 自動化單晶圓清洗系統

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號EVG 320 Wafer Cleaning

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 16:46:06瀏覽次數:791次

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產地類別 進口 應用領域 電子/電池
EVG301半自動化單晶片清洗系統采用一個清洗站,該清洗站使用標準的去離子水沖洗以及超音速,毛刷和稀釋化學藥品作為附加清洗選項來清洗晶片。

EVG 320  Automated Single Wafer Cleaning System

EVG 320  自動化單晶圓清洗系統

自動單晶片清洗系統,可有效去除顆粒

 

EVG320自動化單晶圓清洗系統可在處理站之間自動處理晶圓和基板。 機械手處理系統可確保在盒到盒或FOUPFOUP操作中自動預對準和裝載晶圓。 除了使用去離子水沖洗外,配置選項還包括兆頻,刷子和稀釋的化學藥品清洗。

 

特征

多達四個清潔站

全自動盒帶間或FOUPFOUP處理

可進行雙面清潔的邊緣處理(可選)

使用1 MHz的超音速噴嘴或區域傳感器(可選)進行高效清潔

先進的遠程診斷

防止從背面到正面的交叉污染

*由軟件控制的清潔過程

EVG320技術數據

晶圓直徑(基板尺寸)200、100-300毫米

 

 

清潔系統

開室,旋轉器和清潔臂

腔室:由PPPFA制成(可選)

清潔介質:去離子水(標準),其他清潔介質(可選)

旋轉卡盤:真空卡盤(標準)和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成

 

旋轉:zui3000 rpm5秒內)

超音速噴嘴:頻率:1 MHz3 MHz選件);輸出功率:30-60 W;

去離子水流量:zui1.5/分鐘;有效清潔區域:?4.0 mm;材質:聚四氟乙烯

兆聲區域傳感器:可選的;

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