電子束光刻系統EBL (E-Beam Lithography)
電子束直寫系統 、 電子束曝光系統
CABL-9000C series

納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀納米科技提供 的電子束納米光刻（EBL）系統，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統。

型號包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小線寬可達8nm，小束斑直徑2nm，套刻精度 20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)。

技術參數：
1.小線寬：小于10nm（8nm available)
2.加速電壓：5-50kV
3.電子束直徑：小于2nm
4.套刻精度：20nm(mean+2σ)
5.拼接精度：20nm(mean+2σ)
6.加工晶圓尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)
7.描電鏡分辨率：小于2nm

主要特點：
1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍
2.出色的電子束偏轉控制技術
3.采用場尺寸調制技術，電子束定位分辨率（address size)可達0.0012nm
4.采用軸對稱圖形書寫技術，圖形偏角分辨率可達0.01mrad
5.應用領域廣泛，如微納器件加工，Si/GaAs 兼容工藝，研究用掩膜制造，納 米加工（例如單電子器件、量子器件制作等），高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match），圖形線寬和圖形位移測量等。