EVG^®7200 LA

Large-Area SmartNIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®7200LA  大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統

大面積的共形納米壓印光刻

技術數據

EVG7200大面積UV納米壓印系統使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的有效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為小的結構提供佳的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結果。憑借*且經過驗證的設備功能（包括的易用性）以及高水平的工藝專業知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業需求。

*分辨率取決于過程和模板

特征

專有的SmartNIL®技術可在大面積區域提供的共形烙印

經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節省大量成本

強大且可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG7200LA技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米以下直至Gen3（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 µm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm²）

對準：可選的光學對準：≤±15 µm

自動分離：支持的

迷你環境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的