島津光譜儀的測量準確度很高，但測量的結果和實際上總有一些誤差，那么島津光譜儀的誤差究竟是什么原因造成的？下面一起來了解一下吧！
一、系統誤差的來源：
(1)標樣和試樣中的含量和化學組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
(2)標樣和試樣的物理性能不*相同時，激發的特征譜線會有差別從而產生系統誤差。
(3)澆注狀態的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據會有所差別。
(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統誤差。
(5)要消除系統誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規定要求。為了檢查系統誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。
我們常見的光譜儀包括哪幾個主要部分：
一、入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統的物點。
二、準直元件: 使狹縫發出的光線變為平行光。該準直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
三、色散元件: 通常采用光柵，使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。
四、聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點對應于一特定波長。
五、探測器陣列：放置于焦平面，用于測量各波長像點的光強度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。
