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AMETEK CAMECA發布研究和工業用高負荷耐用型原子探針顯微鏡
作為科學儀器和測量解決方案領域的*，AMETEK CAMECA正式發布新款原子探針顯微鏡 EIKOS-UV。EIKOS-UV 原子探針顯微鏡耐受高負荷工作強度，使用更方便，同時具有較低的擁有成本。此款顯微鏡采用標準顯微鏡試樣制備方法，可提供納米級結構信息，從而獲得對研究材料的全新了解，同時加快工業應用產品的開發進程。
“CAMECA 十分自豪地推出 EIKOS-UV。” CAMECA 事業部經理 Jesse Olson 博士這樣說道。“我們相信，無論是采用電壓脈沖模式還是紫外線激光脈沖模式，通過EIKOS-UV，顯微鏡技術人員、研究者和工程師行業的眾多新手都能夠掌握原子探針斷層分析術，從而在原子層面對其材料進行成像處理”。
Olson 繼續說道，“CAMECA 在原子探針測量儀器和應用開發領域擁有 30 余年成功經驗的積淀，并在此基礎上推出全新 EIKOS-UV 平臺，從而樶大程度提升商用合金和大學層面的關鍵研究利用價值。通過 EIKOS-UV 的設計、布局和空間構造，可根據現場的要求進行靈活配置，可靠性高和使用方便的特性得益于兩項主要儀器創新設計：通過預調節內置電極，無需進行現場調節，以及全新 355 nm 激光脈沖系統”。
EIKOS-UV 應用十分廣泛，其中包括金屬、半導體、功能性材料、礦物、原子結構材料、薄膜和涂層。所用標準試樣制備方法和成熟數據分析流程，使其成為適用于納米級材料研究和工業材料開發、耐受高負荷強度的主力儀器，以及 CAMECA 原子探針斷層分析術產品系列的重要擴展。
EIKOS-UV 可提供兩個配置方式。個是基礎 EIKOS 系統，其中融合了反射光譜儀的設計，通過電壓脈沖系統獲得很好的質量分辨率和噪聲信號，以確保在涵蓋廣泛的冶金應用中實現*的數據質量。第二個是全配置 EIKOS-UV 系統，其中將計算機控制的焦點設計加入集成式自動化激光脈沖模塊，以實現更大應用范圍，以及更高等級的噪聲信號。基礎型 EIKOS 系統可在現場升級至 EIKOS-UV。
原子探針斷層分析術(APT 或 3D APT)是僅有的在子級三維空間成像和化學成分測量方面都能夠實現全面原子級應用的材料分析技術。此項技術在 20 世紀 60 年代研發成功，從那時起就一直對材料科學的重大進步產生了重要作用。原子探針顯微鏡由 CAMECA 進行專屬研發和制造，已應用于研究和開發實驗室。
CAMECA 原子探針斷層分析術系列產品，現在有兩個產品系列：LEAP 5000(本地電極原子試樣)，其中采用具有納米級分辨率、速度快、靈敏度樶高的三維成像和分析，應用極為廣泛(金屬、氧化物、陶瓷、能量儲存材料、半導體和電子器件、生物礦物和地質化學);以及全新推出的 EIKOS-UV 產品系列，在學術和工業應用中，使用都十分方便，而且成本低，從而有利于原子探針斷層分析術的推廣應用。
關于 CAMECA
CAMECA®擁有60余年材料顯微和納米分析應用領域的科學儀器設計、制造和維護經驗。自從在 20 世紀 50 年代完成具有開創性的電子探針顯微分析 (EMPA)，以及 60 年代推出二次離子質譜儀 (SIMS)以來，CAMECA 一直是*的，在一些輔助技術領域實現了無數項創新突破，例如低能量電子感應 X 射線發射光譜法(LEXES)和原子探針斷層分析術 (APT)。
CAMECA是阿美特克材料分析部門成員，阿美特克是電子儀器和機電設備的*，年銷售額約為50億美金。為材料分析、超精密測量、過程分析、測試測量與通訊、電力系統與儀器、儀表與控制、精密運動控制、電子元器件與封裝、特種金屬產品等領域提供技術解決方案。共有17,000多名員工，150多家工廠，在美國及其它30多個國家設立了100多個銷售及服務中心。