一、電子工業純化水設備供應原理，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）設計原則： ☆ 品質---依照客戶生產所需超純水的水質要求及生產特點，并考慮水源的水質（需客戶提供水質分析報告或源水樣品）。☆ 可擴充性—系統分段設計規劃，考慮就近用水和生產安全需要，可依照生產線需求隨時擴充產能，客戶可分階段投資。電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產　屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 集成電路生產中高純水清洗硅片。 

         二、電子工業純化水設備典型工藝流程

         預處理系統－反滲透系統－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統工藝)預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (工藝) 預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)處理系統－反滲透系統－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)北京EDI超純水設備.